電子イメージセンサーが従来型カメラフィルムを排除したように、何十年間も親しまれたクロム・オン・グラスのフォトマスクも空間光変調器に置き換わって行くと考えられます。現在多くのリソグラフィー関係会社がフォトマスクの作成と維持にかかる時間、費用、工数を抑制するため直接描画マスクレスソリューションに移行しています。直接描画リソグラフィーは他にもユニークな特徴から、ダイ毎のカスタマイズ、基板の利用率改善、製造工程への柔軟性といった利点もたらします。しかしながら、マスクレステクノロジーには大きな問題点があります。それはスループットです。光変調器のスピードがマスクベースシステムと同等のスループットを達成する上で極めて重要な要素となります。GLVの記録的なスイッチングスピードはこの新しいマーケットに適していると言えます。
下の例はSCREENのアドバンストパッケージング用DW3000直接描画装置です。このシステムは0.5umのグリッドで最小2.5umのパターン解像度で1時間に最大100枚(200mm)のウエハー を処理することができます。
