長い道のりを努力して来ました
シリコン・ライト・マシーンズ(Silicon Light Machines “SLM”)は1994年にエシェレ(Echelle)として創設され、GLVの高解像度ディスプレーの商品化を目的としてスタートしました。2000年に高解像度フルカラーのレーザープロジェクションディスプレーの開発に成功し、この分野でのGLV独占使用権はソニーコーポレーションが獲得しました。同年後半にSLMはファンドリーのパートナーであったサイプレスセミコンダクター (サンノゼ)の傘下に入り、長距離情報通信市場向けにGLVベースのダイナミック・ゲイン・イコライザーの開発へと軸足を移しました。しかし2003年の情報通信市場の縮小に伴い、数年前から大日本スクリーン製造(現:SCREENホールディングス)と開発を始めていたCtP(Computer-to-Plate)刷版描画装置へと方針を転換することとなりました。10年以上に渡る共同開発により、このビジネスは徐々に成長し2008年にSLMはSCREENの傘下に加わることになりました。それ以来SLMはスクリーンや他の顧客とともに、直接描画アプリケーション向けの空間光変調器の開発に携わっています。
GLVテクノロジーがスタンフォード大学の研究室で発明される
GLV高解像度ディスプレーの開発に向けエシェレ(Echelle)創設
シリコン・ライト・マシーンズ(Silicon Light Machines “SLM”)に社名変更
インフォーメーションディスプレー シンポジュームでGLVを発表、論文受賞
SCREENとAGFAとの CtP共同開発を開始
ソニーがディスプレー におけるGLVの独占使用権を獲得
サイプレスセミコンダクターの傘下に入る
GLVベースのオプティカルゲインイコライザーの開発開始
AGFAとSCREENがGLVベースCtPリソグラフィーシステムを導入
Planar Light Valve (PLV)、2次元アナログGLV開発でDAPRAグラント賞獲得
ピクセル数・機能を向上するためのCMOS-MEMS統合開発を開始
CtP用の高効率G1088モジュールを発表
Planar Light Valveで特定パターンでの2次元動画を実演
直接描画紫外線リソグラフィー用G8192モジュールを製品化
大日本スクリーン製造の傘下に加入
ファンドリーをフリースケールセミコンダクタに移管
ディスプレーでのGLV権利を再獲得
SCREENがG8192モジュールで 半導体直接描画装置DW3000を発表
G8192モジュールがUV光(355nm)の寿命評価で10,000時間を達成
サニーベールでウエハー後工程用としてクラス100のクリーンルーム開設